磁控線是物理氣相沉積的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多材料，且具有設(shè)備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)，而上世紀(jì) 70 年代發(fā)展起來的磁控濺射法更是實現(xiàn)了高速、低溫、低損傷。因為是在低氣壓下進(jìn)行高速濺射，必須有效地提高氣體的離化率。
磁控濺射通過在靶陰極表面引入磁場，利用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。
磁控管內(nèi)部都有一磁場,在陰陽級間加負(fù)高壓(三千六百多伏),燈絲(3.6V)烘烤磁控管柵級,柵板上的電子溢出,在內(nèi)置磁場與外加電場雙重作用下,電子以圓周螺旋運(yùn)動打到陽級,而陽級上有很多腔室,叫諧振腔,電子打到諧振腔上就產(chǎn)生振蕩,直致額定頻率,后由天線